Pajisjet e plazmës LED RF

Pajisjet e plazmës LCD RF janë projektuar posaçërisht për trajtimin sipërfaqësor të komponentëve të ekranit me kristal të lëngshëm dhe materialeve elektronike përkatëse. Dimensionet e përgjithshme të makinës janë 900W × 1750H × 1200D (mm). Dhoma e saj e vakumit, e ndërtuar nga çelik inox i qëndrueshëm, ka përmasa 450 × 300 × 450 mm dhe strehon deri në gjashtë tabaka të grumbulluara në një grumbull të vetëm. Ky konfigurim e lejon sistemin të mbështesë si eksperimentet pilot-në shkallë dhe prodhimin industrial me volum të lartë.

 

Për këndvështrimin funksional, pajisja integron-komponentë elektrikë me cilësi të lartë, me burim nga marka të njohura ndërkombëtarisht, duke siguruar- stabilitet operacional afatgjatë. Sistemi ofron modalitete manuale dhe plotësisht të automatizuara, duke lejuar fleksibilitet në funksionim. Një-strukturë e menaxhimit të autoritetit në tre nivele-që mbulon operatorin, inxhinierin dhe aksesin e avancuar të përdoruesit-siguron prodhim të sigurt dhe parandalon rregullimet e paautorizuara. Për gjurmueshmërinë e prodhimit, makina përmban një sistem raportimi të integruar, që regjistron dhe rezervon automatikisht të dhënat e procesit në baza mujore. Përdoruesit mund të ruajnë dhe të kujtojnë një numër të pakufizuar të recetave të procesit, duke siguruar përshtatshmëri të përshtatshme për produkte dhe aplikacione të ndryshme.

Konfigurimi i sistemit bazë miraton tubacione dhe shakull çeliku inox, së bashku me valvulat vakum GDQ të personalizuara për kontroll efikas të shkarkimit. Matja e vakumit kryhet nga një matës vakumi i rezistencës Pirani, i cili siguron lexime të sakta dhe të qëndrueshme. Për izolimin e dhomës është përfshirë një-valvul i portës me vakum të lartë. Sistemi i kontrollit mbështetet në Mitsubishi PLC me module zgjerimi, duke ofruar menaxhim të saktë dhe të besueshëm të parametrave të procesit.

Për sa i përket specifikimeve teknike, pajisja ofron tre kanale gazi, mbështetës të azotit (N2), argonit (Ar), hidrogjenit (H2) dhe oksigjenit (O2). Niveli i vakumit kontrollohet midis 10-50 Pa, me luhatje të presionit të mbajtur brenda 5%. Normat e rrjedhjes së gazit mund të rregullohen brenda intervalit 0–200 sccm. Ndërfaqet e azotit ftohës, ajri i kompresuar dhe gazi i procesit funksionojnë në mënyrë të sigurt në 0,45 MPa ose më poshtë. Mënyra e trajtimit të plazmës është plazma e drejtpërdrejtë, me elektroda anode dhe katode të alternuara. Midis dy dhe katër grupeve të elektrodave mund të instalohen njëkohësisht. Çdo elektrodë ka një sipërfaqe efektive prej 380 × 310 mm, dhe hapësira ndërmjet elektrodave është e rregullueshme, me një diapazon standard prej 2,5 cm.

Në aplikimet industriale, kjo pajisje është veçanërisht e vlefshme për pastrimin e sipërfaqeve përpara proceseve të kapsulimit (formimit). Trajtimi me plazmë heq ndotësit organikë dhe aktivizon sipërfaqen e nënshtresës, duke rritur në mënyrë efektive zonën e kontaktit dhe forcën e ngjitjes. Kjo parandalon shtrembërimin ose ndarjen gjatë formimit dhe kontribuon në besueshmërinë më të lartë të produktit. Me dizajnin e tij të fortë, funksionet e avancuara të kontrollit dhe performancën e saktë të procesit, sistemi jep rezultate të qëndrueshme dhe të përsëritshme të trajtimit të plazmës, duke e bërë atë një zgjidhje ideale për prodhimin e paneleve LCD, si dhe aplikimet e paketimit gjysmëpërçues.

Hot Tags: Pajisjet e led rf plazma, Kina prodhuesit e pajisjeve të plazmës led rf, fabrika